- 题名/责任者:
- 应用光学/赵存华, 丁超亮编著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2017.4
- ISBN及定价:
- 978-7-121-30958-8/CNY45.00
- 载体形态项:
- 237页:图;26cm
- 丛编项:
- 光电信息科学与工程类专业规划教材
- 个人责任者:
- 赵存华 编著
- 个人责任者:
- 丁超亮 编著
- 学科主题:
- 应用光学-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- O439
- 一般附注:
- 普通高等教育“十三五”规划教材
- 书目附注:
- 有书目 (第237页)
- 提要文摘附注:
- 本书以“讲座式”形式编排应用光学课程内容, 每一章为一个讲座, 2学时授课, 全书共设计31个讲座。每一讲的内容详实、完整、篇幅适中。同时, 在学期期中和期末, 安排了两次课程设计, 要求学生以论文的形式提交, 对学生科研能力的训练起到了重要的作用。本书包含了应用光学的基本知识和基本理论, 如理想成像理论、目视光学仪器原理、平面镜棱镜系统、光阑、光度学基础、像差理论概述和常见光学仪器等。
- 使用对象附注:
- 本书可作为高等学校光电信息类专业的教材或者参考书, 也可作为涉光类科学研究或工程技术人员的自学参考书
- 读秀电子资源:
- 电子全文(读秀试读)
- 读秀电子资源:
- 读秀链接
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 馆藏地 | 定位 | 书刊状态 | 还书位置 |
| O439/16 | 1636961 | 2017.4 | 样本库
|
阅览 | 样本库 | |
| O439/16 | 1636962 | 2017.4 | 理科库-二楼西
|
可借 | 文学库-一楼东 |
显示全部馆藏信息




样本库